UNIPOL-1000D雙盤(pán)壓力研磨拋光機(jī)

簡(jiǎn)要描述：UNIPOL-1000D雙盤(pán)壓力研磨拋光機(jī)主要用于材料研究領(lǐng)域，廣泛使用于大專(zhuān)院校、科研院所實(shí)驗(yàn)室的金屬、陶瓷、玻璃、巖樣、礦樣等材料樣品的自動(dòng)研磨拋光，以及工廠的小規(guī)模生產(chǎn)等

產(chǎn)品型號(hào)：
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
更新時(shí)間：2024-09-09
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產(chǎn)品簡(jiǎn)介：UNIPOL-1000D雙盤(pán)壓力研磨拋光機(jī)主要用于材料研究領(lǐng)域，廣泛使用于大專(zhuān)院校、科研院所實(shí)驗(yàn)室的金屬、陶瓷、玻璃、巖樣、礦樣等材料樣品的自動(dòng)研磨拋光，以及工廠的小規(guī)模生產(chǎn)等。本機(jī)設(shè)有兩個(gè)研磨拋光工位，可以分別進(jìn)行研磨、拋光操作，既避免了交叉污染，又提高了工作效率。

UNIPOL-1000D雙盤(pán)壓力研磨拋光機(jī)

產(chǎn)品型號(hào)	UNIPOL-1000D雙盤(pán)壓力研磨拋光機(jī)
安裝條件	本設(shè)備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：設(shè)備配有上水口及下水口，需自行連接自來(lái)水及排水 2、電：AC220V 50Hz，必須有良好接地 3、氣：無(wú) 4、工作臺(tái)：尺寸1500mm×600mm×700mm，承重200kg以上 5、通風(fēng)裝置：不需要
主要特點(diǎn)	1、設(shè)有兩個(gè)研磨拋光工位，可分別進(jìn)行研磨、拋光操作。 2、中心加載壓力，壓力穩(wěn)定可靠。 3、性能優(yōu)良，操作簡(jiǎn)單，適用范圍廣。
技術(shù)參數(shù)	1、電源：220V 50Hz 2、載物盤(pán)：Ø150mm 3、桃型孔：Ø25.4mm 4、磨拋盤(pán)：Ø250mm 5、載物盤(pán)（上盤(pán)）轉(zhuǎn)速：10rpm-80rpm（無(wú)級(jí)調(diào)速） 6、磨拋盤(pán)（下盤(pán)）轉(zhuǎn)速：50rpm-400rpm（增量調(diào)速，zui小增量10） 7、壓力：0.5kg-20kg（zui小增量0.5kg）
產(chǎn)品規(guī)格	尺寸：780mm×590mm×750mm；重量：100kg
標(biāo)準(zhǔn)配件	1	鑄鋁拋光盤(pán)	2個(gè)
	2	平載物盤(pán)	1個(gè)
	3	桃型孔載物盤(pán)	1個(gè)
	4	磁力片	4片
	5	研拋底片	6片
	6	砂紙（240#、400#、800#、1500#）	各2片
	7	拋光墊（磨砂革、合成革、聚氨酯）	各2片
	8	金剛石拋光膏（W2.5）	1支
可選配件	1、SKZD-2滴料器 2、SKZD-3滴料器 3、SKZD-4自動(dòng)滴料器 4、YJXZ-12攪拌循環(huán)泵 5、精密測(cè)厚儀 6、GPC-50A精確磨拋控制儀 7、陶瓷研磨盤(pán) 8、玻璃研磨盤(pán)